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上海集成电路研发中心伍强博士应邀在上海光机所“清河之光”论坛作学术报告

您现在的位置:情感专家 > 情感咨询时间2019-07-30 17:40 来源:本站

上海集成电路研发中心伍强博士应邀在上海光机所“清河之光”论坛作学术报告

上海集成电路研发中心伍强博士应邀在上海光机所“清河之光”论坛作学术报告文章来源:上海光学精密机械研究所|发布时间:2019-06-18|【】【】    日上午,上海光机所第四十九期“清河之光”论坛在溢智厅举办。

本次论坛邀请了上海集成电路研发中心伍强博士作题为“衍射极限附近的光刻工艺”的学术报告。

上海光机所邹明副所长出席了报告会,所内科研人员和研究生积极参与了本期论坛并进行了学术交流。 论坛由信息光学与光电技术实验室王向朝研究员主持。   微米之后,光刻工艺的分辨率接近了衍射极限。 为了保持光刻工艺的性能,涌现出来很多新方法,例如离轴照明、化学放大型光刻胶、抗反射层、相移掩模、光学邻近效应校正、浸没式光刻、自由光瞳、负显影技术、多重图形技术、极紫外光刻等。 伍强的报告以光刻工艺的性能需求为主线,理论结合实际,深入浅出地介绍现代光刻工艺的主要工艺与参数需求、光刻胶与抗反射层技术、光掩模技术、计算光刻技术、光学临近效应校正技术、多重图形技术、极紫外光刻光源技术、浸没式光刻技术等几个关键方面。

报告会上,伍强与多名与会人员进行了技术讨论,给了与会人员很大的启发。 报告会后,伍强与本所参与相关任务研发的科研人员进行了热烈的学术讨论。

  中国国际半导体技术大会光刻分会副主席。 年本科毕业于复旦大学物理系,年博士毕业于美国耶鲁大学物理系,~年担任中国国际半导体技术大会光刻分会主席。 先后任职于美国、我国华虹电子有限公司、荷兰光刻设备(中国)有限公司、中芯国际集成电路制造(上海)有限公司、中芯国际新技术研发有限公司,先后参与微米、微米、微米、纳米、纳米、纳米、纳米、纳米、纳米等光刻技术研发,负责纳米逻辑技术包括极紫外光刻技术的预研。

共获得授权专利项,包括美国专利项。

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